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日本hiroshimamm低損傷納米濕式微珠磨機

日本hiroshimamm低損傷納米濕式微珠磨機

產(chǎn)品型號: DAM

所屬分類:

產(chǎn)品時間:2025-05-03

簡要描述:日本hiroshimamm低損傷納米濕式微珠磨機DAM
這是一種雙軸濕式珠磨機,其配備有離心式珠粒分離裝置,并且在攪拌轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)速度方面具有較高的自由度。
 在納米分散珠磨機中,為了進行低損傷處理,需要使用微小的珠使攪拌轉(zhuǎn)子低速旋轉(zhuǎn),但是由于低速旋轉(zhuǎn)引起的離心力的降低,會發(fā)生珠泄漏。Dual Apex粉碎機通過采用雙螺桿系統(tǒng)解決了這個問題,該系統(tǒng)可以分別驅(qū)動攪拌轉(zhuǎn)子和離心分離機。

詳細說明:

日本hiroshimamm低損傷納米濕式微珠磨機DAM

濕式微珠磨機,用于粉碎和分散納米顆粒,特別是用于低損傷的納米顆粒分散

總覽

 這是一種雙軸濕式珠磨機,其配備有離心式珠粒分離裝置,并且在攪拌轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)速度方面具有較高的自由度。
 在納米分散珠磨機中,為了進行低損傷處理,需要使用微小的珠使攪拌轉(zhuǎn)子低速旋轉(zhuǎn),但是由于低速旋轉(zhuǎn)引起的離心力的降低,會發(fā)生珠泄漏。Dual Apex粉碎機通過采用雙螺桿系統(tǒng)解決了這個問題,該系統(tǒng)可以分別驅(qū)動攪拌轉(zhuǎn)子和離心分離機。通過使用獨立的旋轉(zhuǎn)機構,低速攪拌和高速離心,因此,即使攪拌速度低,也可以使用微小的珠的微珠磨機能夠以低損傷分散納米粒子。也可以高速旋轉(zhuǎn)攪拌轉(zhuǎn)子,一臺珠磨機可以處理微米級的研磨至納米分散體。我們有一種用于生產(chǎn)機械的1電機同軸類型,它不經(jīng)常改變轉(zhuǎn)速,而一種2軸類型則可以很容易地改變轉(zhuǎn)速。

特征

1.微珠加工可??實現(xiàn)亞微米級至納米級的粉碎/分散處理!

由于它可以使用小直徑為15μm的微珠,因此它是可以將小20 nm級的細粒漿料分散的珠磨機。

2.低速攪拌是可能的,納米顆粒漿液的低破壞分散是可能的!

攪拌轉(zhuǎn)子和珠子分離器可以單獨驅(qū)動,即使在低攪拌速度下也可以分離微珠。它是一種納米顆粒分散器,可通過使用微小的珠子并以低速攪拌來處理20至300 nm的顆粒,而損害較小。珠磨機,非常適合鈦酸鋇和顏料不易損壞的分散處理。

3.一臺機器可以處理多種類型的漿料!實驗珠磨機的理想選擇!

它可以處理直徑范圍從φ15μm到φ1mm的各種珠子,還可以高速旋轉(zhuǎn)攪拌轉(zhuǎn)子,并且攪拌力的選擇范圍廣,并且一臺珠磨機可以處理從強大的破碎到低損傷分散的各種問題。許多也作為多功能實驗室珠磨機購買。

*其他功能與UAM Ultra Asspec Smill相同。?

運行條件

可用磁珠直徑

Φ15μm?Φ1毫米

珠粒分離器圓周速度

6m /秒?12m / s

分散轉(zhuǎn)子圓周速度

2m /秒?12m / s

應用實例和終產(chǎn)品實例

電子材料(鈦酸鋇,中空二氧化硅),電極材料(納米銀等),熱射線阻擋材料(ITO等),光催化劑(氧化鈦),液晶顏料等。

雙頂點磨的主要規(guī)格

模型容量(L)電動機(千瓦)總長(米)寬(米)高度(米)大約重量(公斤)
DAM-0150.152.20.600.651.00250
DAM-11個3.71.500.801.90400
DAM-57.51.501.202.35750
DAM-10111.501.202.65850

日本hiroshimamm低損傷納米濕式微珠磨機DAM

介紹Apex Mill系列的產(chǎn)品陣容

產(chǎn)品名稱大綱可用磁珠直徑
頂點磨濕式研磨珠磨機
 立式濕式研磨珠磨機,可有效處理微米至亞微米級的研磨
φ0.3毫米?φ5毫米
超尖磨機*yi臺 微珠磨粉機納米珠磨粉機的標準模型,
 可以使用小直徑為15μm的微珠
粉,它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機。
φ15?1毫米
雙頂點磨 濕式微珠研磨機,
 用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散,特別是用于低損傷的納米顆粒分散
φ15?1毫米
寬分離器
Apex Mill
高流量高粘度珠磨機
 濕式微珠磨機,與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容
φ15?0.3毫米
Ultra Apex Mill
Advance
超低損傷納米分散機
 高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機
φ15?0.3毫米
Apex Mill F&M用于藥品,食品和化妝品的無  密封
 珠磨機,適用粉碎有機物質(zhì)。珠磨機
省略了機械密封,以提高清潔性并防止污染,
 尤其適用于納米級制藥
φ0.1毫米?φ5毫米
 


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